強(qiáng)場(chǎng)激光物理國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室前身是中國科學(xué)院強(qiáng)光光學(xué)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，以中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所為依托單位。實(shí)驗(yàn)室主要從事激光物理，特別是強(qiáng)場(chǎng)激光物理及相關(guān)新前沿新方向的開拓研究。
該極紫外光刻光源關(guān)鍵技術(shù)研發(fā)課題依托強(qiáng)場(chǎng)激光物理國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室開展，進(jìn)行激光等離子體型的極紫外（EUV，extreme ultraviolet）光刻光源關(guān)鍵技術(shù)研究。該技術(shù)的預(yù)研得到了國家科技重大專項(xiàng)以及上海市的重要支持。
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研究課題：極紫外光刻光源研發(fā)
新一代極紫外（EUV，extreme ultraviolet）光刻技術(shù)是半導(dǎo)體制造實(shí)現(xiàn)7納米、5納米、3納米及以下節(jié)點(diǎn)的關(guān)鍵技術(shù)。EUV光刻基于13.5nm波長(zhǎng)的極紫外光源，其基本原理是利用高功率激光與錫液滴靶相互作用產(chǎn)生EUV光。EUV光刻光源是EUV光刻機(jī)的核心部件，該技術(shù)的預(yù)研得到了國家科技重大專項(xiàng)以及上海市的重大支持。課題研究目標(biāo)以建立激光等離子發(fā)光的EUV(LPP-EUV)光刻光源綜合研究平臺(tái)，突破直徑20~30μm穩(wěn)定錫液滴發(fā)生器，高功率（萬瓦級(jí)）短脈沖（10-30ns）主泵浦激光器和高功率皮秒預(yù)泵浦激光器，以及污染控制、EUV光收集等關(guān)鍵技術(shù)，為EUV光刻光源產(chǎn)品研發(fā)奠定基礎(chǔ)。
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聯(lián)系人：王成 13918010953
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